詢價(jià)
在活性藥物成分 (API) 的生產(chǎn)過程中，添加晶種是普遍使用的手段來結(jié)晶 過程的高重復(fù)性，而微晶種由于其具有更小的顆粒和更大的比表面積，則更利于晶體生長。 制備微晶種可使用干式研磨法（干磨）和濕式研磨法（濕磨）兩種方法。干磨常常存在粉塵控 制的問題。濕磨可避免這個(gè)問題，
（1）向結(jié)晶釜1中加入活性藥物成分X粗品的溶液或加入X粗品和適量良溶劑，攪拌 使其溶解制成溶液；良溶劑指的是化合物在其中有高溶解度的溶劑（可以是水或各種有機(jī) 溶劑），相應(yīng)的反溶劑就是化合物在其中溶解度低的溶劑。
（2）然后通過降溫、蒸發(fā)溶劑或加入適量反溶劑使過飽和度達(dá)到一定值
（3）然后從加料口4加入質(zhì)量百分比<1%（例如0.5%）的固體晶種誘導(dǎo)結(jié)晶；所述質(zhì) 量百分比是晶種質(zhì)量相對于含量校正的X粗品質(zhì)量的百分比；文中提到的晶種比例全部是 晶種質(zhì)量相對于含量校正的X粗品質(zhì)量的百分比。
（4）開啟循環(huán)泵2和濕磨機(jī)3，此時(shí)可通過結(jié)晶釜1底部出料口管道上所設(shè)玻璃透明在線顆粒度分析儀（FBRM）觀察到逐漸有大量微晶種產(chǎn)生形成懸浮 液。
本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
chao超速濕法粉碎機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
300 | 21,000 | 66 | 5.5 | DN25/DN15 | |
CMXD 2000/5 | 1500 | 15,750 | 66 | 18 | DN40/DN32 |
CMXD 2000/10 | 4000 | 10,500 | 66 | 37 | DN80/DN65 |
CMXD 2000/20 | 10000 | 7,300 | 66 | 75 | DN80/DN65 |
CMXD 2000/30 | 20000 | 4,900 | 66 | 132 | DN150/DN125 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到#大允許量的10%。 |
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和#終產(chǎn)品的要求。
微晶種高速濕磨機(jī)，晶種高速濕磨機(jī)，API 高速濕磨機(jī)，醫(yī)藥中間體高速濕磨機(jī) ，醫(yī)藥濕磨機(jī) 常州 XX濕磨機(jī) 臺州XX 濕磨機(jī)
